電容耦合傳輸線脈沖發(fā)生器（CC-TLP），與標(biāo)準(zhǔn)JS-002 CDM測(cè)試儀相比，允許用戶生成具有更高控制和可重復(fù)性的類CDM脈沖，這是通過(guò)vf-TLP而不是CDM測(cè)試儀完成的。 研究設(shè)備對(duì)CDM壓力的響應(yīng)只需要CC-TLP探針夾具和vf-TLP設(shè)置即可。此應(yīng)用的典型vf-TLP脈沖設(shè)置通常分別為1ns和100ps的脈沖寬度和上升時(shí)間。

ESDEMC Technology即將發(fā)布其CC-TLP探測(cè)解決方案，作為對(duì)現(xiàn)有vf-TLP解決方案的補(bǔ)充。包括特殊軟件支持。 CC-TLP解決方案將為市場(chǎng)提供自動(dòng)校準(zhǔn)和設(shè)備探測(cè)的選項(xiàng)。也可以使用傾斜調(diào)節(jié)旋鈕和微型定位器手動(dòng)進(jìn)行校準(zhǔn)和探測(cè)，CC-TLP探測(cè)頭可以輕松地安裝到微型定位器上。

下圖顯示了ESDEMC的CDM，RP-CCDM和CCTLP之間的瞬態(tài)數(shù)據(jù)比較。

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